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硅片等离子清洗机

返回列表 来源:普乐斯 浏览: 发布日期:2023-03-13 14:46【
文章导读:硅片等离子清洗机主要用于处理硅片材料的表面处理设备,解决硅片在生产制造过程中沾染的污染物,如:有机污染物、无机盐、金属离子、机械微辣等;同时提供表面改性的效果,有利于后续工艺处理。
硅片等离子清洗机主要用于处理硅片材料的表面处理设备,解决硅片在生产制造过程中沾染的污染物,如:有机污染物、无机盐、金属离子、机械微辣等;同时提供表面改性的效果,有利于后续工艺处理。
硅片
硅片等离子清洗机组成
真空室:放置需要清洗的硅片,是等离子清洗的实际操作区域;
真空系统:包括真空泵和各种真空阀门、计量仪器等,用于将真空室内的压力降低到所需范围内;
等离子发生器:设备核心部件,产生等离子体的重要设备;
气体控制系统:用于控制气体的流量、压力等参数;
控制系统:控制系统用于控制设备的运行状态和参数设置。
等离子清洗机
硅片等离子清洗机流程
1、硅片放置:将需要清洗的硅片放置在真空室内;
2、真空处理:使用真空泵将真空室内的压力降低到一定程度;
3、加气体:通过气体控制系统加入氢气、氮气等气体,使其在等离子发生器的作用下转化为等离子体。
4、清洗:等离子体中的离子和自由基与硅片表面发生反应,可以去除表面的污染物和氧化层等。
5、气体清除:清洗结束后,通过气体控制系统排出氢气、氮气等气体,避免对硅片造成影响。
6、通气:使用真空泵将真空室内的气体排出,恢复环境压强。
7、取出硅片:将清洗完的硅片取出。
硅片等离子清洗机
硅片等离子清洗机目前得到了广泛应用,在半导体制造的各个阶段都能提供帮助,解决表面处理的难题。

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