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普乐斯继续带你了解四大等离子清洗机功能及应用!

返回列表 来源:普乐斯 浏览: 发布日期:2021-02-20 13:20【
文章导读:在2021年2月19日的文章中,普乐斯向大家客观看待介绍了等离子清洗机的两个主要功能,等离子清洗机还有两个附属功能今天要给大家分享:
在2021年2月19日的文章中,普乐斯向大家客观看待介绍了等离子清洗机的两个主要功能,等离子清洗机还有两个附属功能今天要给大家分享:
普乐斯等离子清洗机

1 等离子清洗机附属功能之一:等离子刻蚀。主要以化学反应为主,物理反应为辅,减法。
等离子刻蚀(等离子蚀刻)化学反应为主,由物理轰击来达到各向异性及增加刻蚀速度;加上物理轰击后,比纯化学刻蚀要快;对应的专业设备是等离子刻蚀机,放电模式主流是ICP,等离子体浓度更高。常规的等离子清洗机讲到的刻蚀,往往是借助一些腐蚀性的气体,把材料表面变得更加粗糙而已。典型应用:半导体行业的晶圆刻蚀等。
2 等离子清洗机附属功能之二:等离子沉积(涂覆、接枝、聚合等)。有的是化学反应为主,有的则是物理反应,有的是化学和物理反应兼而有之,加法。
等离子沉积,简单的一种说法就是在材料的表面增加一层东西(涂层、膜层),这层东西既有可能是亲水涂层,也可以是疏水膜层。利用等离子清洗可以做沉积和接枝,需要通入不同的反应性气体或者加入单体,但是对于沉积和接枝出来的涂层厚度、均匀性等,不太容易控制。典型应用有:医疗器械的做生物兼容性涂层前的接枝,纺织材料表面疏水涂层制作等。下图是PET无尘布的经过等离子聚合后呈现的疏水状态
普乐斯等离子清洗机处理PET无尘布
对应的专业设备,如果采取物理轰击方式,如磁控溅射(PVD);如果是化学反应方式,如等离子增强化学气相沉积PECVD。
小结:等离子清洗和等离子活化的时效性是注意的重点,所以处理完的材料要尽快用于下一道工序生产;等离子刻蚀对均匀性、处理环境要求相对比较苛刻;等离子沉积(接枝、涂覆)的难点在于厚度、硬度、均匀性等;等离子灭菌机,则是等离子清洗机与生物灭杀跨界的产品,属于医疗器械的范畴。等离子清洗机并不是万能的设备,等离子工艺是核心。专业的事情,还得交给专业的人做!

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