小技巧｜等离子清洗机气体选择有哪些细节之处
文章导读：等离子清洗机的干式处理是通过将导电气体电离产生等离子体，从而对工件表面进行处理，气体种类不同，其气体特性也不相同，对处理的效果也有影响。
在之前分享的“影响等离子表面处理效果的设备的工艺参数有哪些?”文章已经提到，等离子清洗机的处理效果是受气体特性所影响的，感兴趣的小伙伴可以点击进行回顾。等离子表面处理是一项非常精细的处理工艺，部分处理的产品对表面处理效果要求很高，有些甚至可以用苛求来形容，因此，每一项工艺参数都值得反复推敲，在等离子清洗机的气体选择上，普乐斯也有一些经验可与大家分享。
常用于等离子表面处理的气体有氮气、氧气、氩气、氢气以及具有腐蚀性的四氟化碳。以上这些气体有哪些特性呢？选择时有哪些细节需要注意呢？
1. 氧气
氧气具有较好的活性，氧化反应也是我们常见的一种反应，电离后形成的氧离子非常适用于聚合物的表面活化和有机污染物的去除，但因其具有高氧化性，所以是不能处理金属材料表面的。
2. 氢气
相信大家对氢气也有了解，它是一种易燃易爆的气体，在等离子表面处理过程中一般是不能与其他非惰性气体混用的，此外，氢气具有还原性属性，能够适当去除一些金属的表面氧化层，这一特点适用于精密的半导体和线路板领域。
3. 氮气
氮的相对原子质量是14，且自身具有较好活性，可实现清洗、活化、刻蚀的功能，并且在过程中一定程度防止金属氧化，因此氮气在实际应用中较多。
4. 氩气
氩气是常见的惰性气体，因此使用氩气进行等离子处理，仅发生物理反应，可通过物理轰击达到清洁和表面粗化的效果，处理过程中不会氧化基材，在一些精密元器件上使用较多。
5. 四氟化碳
四氟化碳是一种应用在等离子处理上典型的腐蚀性气体，四氟化碳在经电离之后的等离子体是含有氢氟酸的，可以对有机材料表面刻蚀及有机物去除，等离子清洗机在用于晶圆纳米级刻蚀及光刻胶去除、线路板的微孔除胶、太阳能电池板制造等方面使用四氟化碳较多。
气体自身的特性不同，所适用的处理材料和条件也不同，普乐斯电子9年专注研制等离子清洗机，等离子表面处理设备，如果您想要了解更多关于等离子表面处理的详细内容或在使用中对影响参数有疑问，欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，普乐斯恭候您的来电！
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